水處理設備在光學中的應用
來源： 閱讀：1374 更新時間：2008-11-13 10:22 純水在光學領域中的重要作用日益突出，純水水質已成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在生產中，高純水主要用作純水清洗和純水配液，不同的工藝生產中純水的用途及對水質的要求也不同。
清洗是指清除工件表面上液體和固體的污染物，使工件表面達到一定的潔凈程度。清洗過程是清洗介質、污染物、工件表面三者之間相互作用，是一種復雜的物理過程，清洗不僅與污染的性質、種類、型態以及粘附程度有關。與清洗介質的理化性質、清洗性能、工件的材質、表面狀態有關、還與清洗的條件如溫度、壓力以及附加的超聲振動、機械振動等因素有關。
傳統的清洗方式有浸式清洗、噴氣清洗、噴流清洗、刷洗、噴淋清洗、噴霧清洗、減壓清洗及高壓水射流清洗等，而超聲波純水清洗是目前國際社會公認的最先進的清洗方式。清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極涂甫碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水，在顯象管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含奇有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯象管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個晶體管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求見表1。
